Raith EBL光刻機(jī)隔振方案
ARISMD主動(dòng)隔振系統(tǒng)/主動(dòng)式減震臺(tái)/主動(dòng)防震臺(tái),模塊化主動(dòng)隔振系統(tǒng),可采用填充式安裝方式,適用于大型光刻機(jī)、球差透射電子顯微鏡、EBL電子束曝光機(jī).......
背景:微電子微納米加工應(yīng)用
使用單位:Infinroe
設(shè)備型號(hào):Raith EBPG5200 Plus
隔振方案:ARISMD1000 Pro主動(dòng)隔振系統(tǒng)/主動(dòng)式減震臺(tái)/主動(dòng)防震臺(tái)
ARISMD Pro主動(dòng)隔振系統(tǒng)/主動(dòng)減震系統(tǒng)/主動(dòng)防震系統(tǒng)
緊湊型模塊化主動(dòng)隔振系統(tǒng),能夠抵消影響超高精密設(shè)備或工具的振動(dòng),多個(gè)獨(dú)立的隔振器可承受高達(dá)4000Kg的大型設(shè)備負(fù)載,安裝簡(jiǎn)易靈活,無(wú)需抬高及重新校準(zhǔn)。
主要優(yōu)勢(shì):
?1. 6自由度隔振
?2. 0.5Hz開(kāi)始隔振有效增益
?3. 可變阻尼
?4. 內(nèi)置人工智能功能
?5. 主動(dòng)隔振頻率范圍可調(diào)整
?6. 遠(yuǎn)程控制
?7. 內(nèi)置實(shí)時(shí)診斷工具(頻譜分析儀、示波器)
?8. 震動(dòng)模式(可選)
應(yīng)用領(lǐng)域:
?1. 電子顯微鏡(SEM、TEM、FIB、EBL、DualBeam)
?2. 半導(dǎo)體測(cè)試設(shè)備(光刻機(jī)、晶圓測(cè)試儀、電子束曝光機(jī)、CD_SEM)
?3. 掃描隧道顯微鏡/STM、掃描探針顯微鏡SPM、大型原子力顯微鏡/AFM
?4. X-Ray、CT、MPI
?......
規(guī)格參數(shù):
Model/型號(hào) | ARISMD300 Pro | ARISMD500 Pro |
Dimensions/規(guī)格(mm)
| 230x230x75 230x270x75 | 230x230x75 230x270x75
|
Load Capacity(Kg)
| 100-300 per Isolator (Module) Number of Modules unlimited | 200-500 per Isolator (Module) Number of Modules unlimited |
Actuaotor Force/制動(dòng)器力
| Vertical = 150N ?; Horizontal = 75N |
Active Isolation Range/主動(dòng)隔振頻率
| 0.5-100Hz
|
Architecture/結(jié)構(gòu)
| MVIS - Multi-layer Vibration Isolation Structure/MVIS-多層隔振結(jié)構(gòu) |
Degrees of Freedom/自由度
| 6 degrees |
Vibration Isolation Performance/性能
| ~8db gain on 1Hz? ~20db gain on 2Hz |
Setting Time/響應(yīng)時(shí)間
| ≤0.1 sec |
Real-Time Diagnostic Tools 實(shí)時(shí)診斷工具
| Built-in Real-Time 2 channels Oscilloscope, Real Time 2 channel Spectrum Analyzer
|
Real-Time performance adjustment 實(shí)時(shí)性能調(diào)整工具
| Adaptive Control in ALL 6 degrees of freedom in real-time. Remote Access
|
Input Voltage/電壓
| AC 80-260V/50-60Hz
|
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